半导体器件清洗
振板式兆声波MEP系列利用高频振动驱动液体分子,产生强声压梯度和流体冲击,可高效清除0.1μm微粒且不损伤基材表面,玻璃基板
兆声波清洗能高效祛除抛光过程中残留的磨料颗粒,同时避免对玻璃表面造成划伤,显著提升了清洗良率晶圆清洗
兆声波清洗能在清洗液中形成均匀的分布,使得晶圆各个部位都能受到均匀的清洗作用高效祛除晶圆上的颗粒杂质,比传统的机械清洗方法对晶圆损伤小。蓝宝石晶圆清洗
兆声波清洗能在清洗液中形成均匀的分布,使得晶圆各个部位都能受到均匀的清洗作用高效祛除晶圆上的颗粒杂质,比传统的机械清洗方法对晶圆损伤小。通过声波的振动将隐藏在内部的污染物有效清除。硬盘清洗
兆声波清洗为非接触式清洗,对结构精细易受损的微电子器件清洗有非常大的优势,通过空化效应和微流效应有效祛除残留的微米级颗粒,确保芯片表面达到极高的洁净度要求。磁头清洗
兆声波清洗适用于科学研究中常用的各类精密仪器,如电子显微镜、光谱仪等。兆声波清洗能有效祛除仪器表面和内部的微小颗粒、油污等污染物,同时不会对仪器造成损伤,保障仪器的性能和精度。铝材/镜面等易损件清洗
兆声波清洗在铝材/镜面等易损件清洗,汽车制造,航空航天制造,光学制造,模具制造等行业也广泛适用,能够在短时间内完成清洗任务,大大提高整体生产效率。
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